芯片霸霸--荷兰ASML

更新时间:2020-09-15 14:12:07点击次数:810次


荷兰ASML公司 (全称: Advanced Semiconductor Material Lithography,目前该全称已经不作为公司标识使用,公司的注册标识为ASML Holding N.V),中文名称为阿斯麦尔(中国大陆)、艾司摩尔(中国台湾)。
这是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬(Veldhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹纽约上市。
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列,其中PAS系列光源为高压汞灯光源,现已停产;AT系列属于老型号,多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列,为ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的机型,分为干式和沉浸式两种,而NXT系列则是现在主推的高端机型,全部为沉浸式目前已经商用的最先进机型是Twinscan NXT 1950i,属于沉浸式光刻机,用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。ASML正在加紧研制基于极紫外(EUV)光源的新型光刻机,型号定为NXE系列。如果量产成功,将成为划时代的产品,有望将关键尺寸缩小至10nm以下,并且可以显著提高集成电路质量。


除了目前致力于开发的TWINSCAN平台外,ASML还在积极与IMEC, IBM等半导体公司合作,开发下一代光刻技术,比如EUV(极紫外线光刻),用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型,用于研发和实验。同时,基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术,也在进一步成熟和研发过程当中。07年末三星(Samsung)宣布成功生产的36纳米闪存,基于的便是双重曝光技术。

ASML一直致力于中国市场的拓展与合作,包括香港在内目前已经在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司,为客户提供及时的服务和咨询。随着公司业务的扩大和中国半导体产业的发展,相信大连、成都、重庆、武汉等新兴的半导体基地也会纳入ASML的版图之内。ASML有信心和中国半导体从业者一道,为技术创新和市场拓展开辟道路。目前ASML已经与浙江大学大连理工大学哈尔滨工业大学上海交通大学等著名高等学府签定奖学金及科研合作协议,为培养本地人才,做出自己的一份贡献


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