芯片霸霸--荷兰ASML

更新时间:2020-12-28 16:54:07点击次数:927次
荷兰ASML公司 (全称: Advanced Semiconductor Material Lithography,目前该全称已经不作为公司标识使用,公司的注册标识为ASML Holding N.V),中文名称为阿斯麦尔(中国大陆)、艾司摩尔(中国台湾)。
这是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬(Veldhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列,其中PAS系列光源为高压汞灯光源,现已停产;AT系列属于老型号,多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列,为ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的机型,分为干式和沉浸式两种,而NXT系列则是现在主推的高端机型,全部为沉浸式目前已经商用的最先进机型是Twinscan NXT 1950i,属于沉浸式光刻机,用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。ASML正在加紧研制基于极紫外(EUV)光源的新型光刻机,型号定为NXE系列。如果量产成功,将成为划时代的产品,有望将关键尺寸缩小至10nm以下,并且可以显著提高集成电路质量。


除了目前致力于开发的TWINSCAN平台外,ASML还在积极与IMEC, IBM等半导体公司合作,开发下一代光刻技术,比如EUV(极紫外线光刻),用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型,用于研发和实验。同时,基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术,也在进一步成熟和研发过程当中。07年末三星(Samsung)宣布成功生产的36纳米闪存,基于的便是双重曝光技术。
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